投影光刻機曝光光學系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項目（方案設(shè)計、初步設(shè)計、施工圖設(shè)計）招標
聯(lián)系人：袁先生手機：13021066931
招標編號： 招標編碼：CBL_20210120_6962799943348224
開標時間： 標訊類別： 國內(nèi)招標
資金來源： 其他                         
 公告內(nèi)容
投影光刻機曝光光學系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項目（方案設(shè)計、初步設(shè)計、施工圖設(shè)計）招標                               
（招標編號：S110000A001022910003）                               
一、招標條件
本招標項目 投影光刻機曝光光學系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項目（方案設(shè)計、初步設(shè)計、施工圖設(shè)計）                已由                北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)行政審批局                以 關(guān)于北京國望光學科技有限公司投影光刻機曝光光學系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項目備案的通知                批準建設(shè)，招標人為 北京國望光學科技有限公司                投資額為                200000                萬元，建設(shè)資金來源為 企業(yè)自籌                ，項目出資比例為                100%                。項目已具備招標條件，現(xiàn)進行公開招標               。
二、項目概況和招標范圍
本次招標項目建設(shè)地點： 北京市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)0606街區(qū)YZ00-0606-0024地塊                
 規(guī)模：地上建筑規(guī)模： 109930.89㎡ ;               地下建筑規(guī)模:    /               ;               建筑面積: 109930.89 ㎡ ;建筑高度: 30m ;長度: 0 m。               
 招標范圍： 投影光刻機曝光光學系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項目的方案設(shè)計、初步設(shè)計及施工圖設(shè)計的編制                ;招標內(nèi)容:                設(shè)計 。
三、投標人資格要求
投標人需具備 ： 建筑行業(yè)（建筑工程）專業(yè)設(shè)計甲級及以上 
                本次招標項目 ：                不接受 聯(lián)合體投標。               
                           
四、是否有投標補償
是否有投標補償：                否。
五、招標文件的獲取
獲取時間： 2021-01-20                 09:00:00 至 2021-01-25                 17:00:00 
                獲取文件。                 文件售價：               400 元。
六、投標文件的遞交
遞交截止時間： 2021-02-09                 14:00:00 
                遞交方式：                現(xiàn)場遞交文件                
 遞交地址：                北京市

友情提醒：報名前與下方聯(lián)系人索取報名登記表，獲取詳細的招標以及招標文件。
聯(lián)系人：袁 先 生

手 機：13021066931
   
郵 箱：13021066931@163.com